هدف تنگستنعمدتاً برای تهیه محصولات پوشش دهنده پاشیده استفاده می شود. در فرآیند پوشش پراکنده ، از ذرات پرانرژی برای بمباران هدف در یک محفظه خلاء استفاده می شود تا باعث فرار اتم یا گروه های اتمی در سطح هدف شود. اتم های فراری یک فیلم نازک با همان ترکیب هدف در سطح قطعه کار تشکیل می دهند.
علاوه بر این ، همچنین یک ماده متداول در رسوب تبخیر فیزیکی و رسوب بخار فیزیکی است. اغلب برای تهیه فیلم ها و روکش های نازک استفاده می شود. این ماده به طور گسترده در تهیه نیمه هادی ها ، پوشش های نوری ، سلول های خورشیدی و سایر دستگاه های الکترونیکی مورد استفاده قرار می گیرد.
جزئیات محصول ژنان تنگستن جزئیات نمایش تصویر
هدف تنگستن
فلز هدف تنگستن